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> 冷等离子体中的粉体研究
冷等离子体中的粉体研究
冷等离子体中的粉体研究
资料类型:
PDF文件
关键词:
冷等离子体
粉体表面刻蚀
硅粉纯化
资料大小:
265K
所属学科:
分子表征
来源:
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19,武汉)
简介:
介绍了在冷等离子体中粉体研究的几个重要成果,分析了粉体在两种反应室结构中的运动、沉降时间及刻蚀状况。理论分析和实验结果表明带振动阴极的反应室在粉体表面刻蚀方面比传统阴极结构的反应室要优越得多。研究表明冷等离子体对硅粉纯化具有应用前景。
作者:
王敬义,尹盛,赵亮,赵伯芳
上传时间:
2008-05-19 15:45:59
下载次数:
59
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