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> Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜形成的影响
Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜形成的影响
Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜形成的影响
资料类型:
PDF文件
关键词:
Na2SiO3
含量
ZAlSi12Cu2Mg1
稳定氧化时间
陶瓷膜层
资料大小:
277K
所属学科:
分子表征
来源:
2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19,武汉)
简介:
电解液组成对微弧氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下,对ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变Na2SiO3的含量,研究了其对微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明:Na2SiO3含量从6g/L到12g/L变化时,膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm;稳定氧化时间由27min缩短为18min;膜层生长速率约从5.70μm/min提高到9.67μm/min;但Na2SiO3含量超过12g/L时,膜层厚度却不再增加了;当Na2SiO3含量为14g/L时,膜层厚度为166μm;当Na2SiO3含量为8g/L时,临界起弧正向电压达385V,负向电压达最低值为27V。XRD分析表明:陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相,陶瓷膜层的莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。
作者:
刘彩文,刘向东,刘永珍,韩春霞,王晓军,张雅萍
上传时间:
2008-05-21 15:14:47
下载次数:
61
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peter007007
2009-11-12 12:27:11
very good
peter007007
2009-11-12 12:27:09
very good
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